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高沃動態

高沃參加國際商標協會(INTA)2013達拉斯年會


       一年一度的國際商標協會(INTA)年會是全球商標界的盛會。今年5月4日至8日,INTA第135屆年會在美國德克薩斯州達拉斯市舉辦,該屆年會主要活動場所包括達拉斯會議中心與奧尼(Omni)達拉斯酒店。除了設置了主會場活動外,年會組委會還為參會者組織了各類論壇、講座、培訓及多種互動會議。

       公司自成立以來,一直參加INTA年會活動。今年是第一次由高沃李總和總經理帶隊,并舉辦現場展臺。在主會場活動中,我公司代表就商標注冊、使用和保護等問題做了專題發言。并與世界各國商標界人士,共同交流、探討與商標相關的實務和經驗。

       通過INTA 2013年會及展覽,高沃與各國參會代表建立了廣泛的業務聯系,增進了與國際同行間的相互了解與信任,成果頗豐,為高沃進一步開展國際業務合作奠定了堅實的基礎,創造了更大的發展空間。


                                      


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