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高沃動態

關于參加“站在全流程角度談從技術交底書到權利要求書的撰寫”交流會的邀請函

      知識經濟時代,專利作為一個企業乃至整個國家提高核心競爭力的戰略資源,凸顯出前所未有的重要地位。

      技術交底資料,是專利申請人(發明人)與專利代理人溝通的資料,是給專利代理人交代要申請專利的技術方案的資料。在專利權授予后,權利要求書是確定發明或者實用新型專利權范圍的根據,也是判斷他人是否侵權的根據,有直接的法律效力。進行權利要求的撰寫必須十分嚴格、準確、具有高度的法律和技術方面的技巧。

      為了回饋多年來眾多企業、及各所高校對我所的支持和信任,北京高沃律師事務所決定在 全國多個城市 舉辦關于“技術交底書與權利要求書的撰寫技巧”交流會現場為大家講解和溝通交流在專利申請文件撰寫過程中的相關問題,您可根據日程安排,自行選擇城市參會期待您的蒞臨。現將參會相關事項通知如下:

 會議信息

 

      會議主題:站在全流程的角度談從技術交底書到權利要求書的撰寫

      主講老師:前國家知識產權局專利審查員

      主辦單位:北京高沃律師事務所

日程安排

                     

 報名費用

      為回饋廣大客戶,本次交流會為公益性質,但是為了使更多客戶受益,故每個單位只有一個免費名額,若有超出人員,每人需260元參會費。

 繼續教育

      根據客戶需求,會議現場會有免費咨詢解答(需提前預約);如有涉及企業知識產權發展的培訓需求,我方也可到貴司提供落地培訓服務,課時、費用等相關事宜請咨詢本公司。

 報名方式

      掃描以下二維碼報名參會   或   聯系您的專屬顧問報名參會


 

      您的意見或建議對我們做好下一階段知識產權工作非常重要,望撥冗出席!


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