為答謝廣大客戶的支持與信任，2017年10月31日，高沃知識產權學院在北京理工大學召開了一場關于“站在全流程角度談從技術交底書到權利要求書的撰寫”交流會。
來自各地的企業代表、科研機構代表、知識產權人士等170余人匯聚于此，共同交流探討了專利挖掘與專利申請文件撰寫方面的相關知識和問題。
會議第一部分，由高沃資深專利代理人劉老師為各位參會人員分析了企業在日益激烈的競爭環境下進行專利申請的重要性、高質量的申請文件對于申請人權益保護的重要作用，并詳細介紹了高沃多年的專利代理經驗和行業優勢。
會議第二部分，由前國家知識產權局董老師著重為大家講解了專利申請技術內容的理解和深層次挖掘、布局；專利文件在申請、審查、無效、訴訟等各階段的撰寫技巧及可能遇到的相關問題和難點。同時，介紹了實際專利審查過程中遇到的案例，通過理論與實踐相結合，深入淺出的分析，便于大家理解消化。
現場大家認真筆記，相互交流，踴躍提問，參會代表反饋通過老師的細致講解，學習了很多干貨，對“哪些創意想法需要進行專利保護、哪些專利在研發和申請撰寫過程中需要規避”等專利知識有了進一步的了解，有效提高了專利保護意識。
參會代表現場提問
中場休息時間參會代表與主講老師交流問題
中場休息時間參會代表與我司代理人交流問題
知識經濟時代，專利作為一個企業乃至整個國家提高核心競爭力的戰略資源，凸顯出前所未有的重要地位。而專利申請文件是確定專利權技術保護范圍的唯一法律文件，高質量的申請文件對于申請人恰當保護其權利起著至關重要的作用。
“高撰寫水準”的專利代理人和“專業、嚴謹”的工作流程，是客戶專有技術能得到有效保護的前提。高沃擁有一支覆蓋全領域的專業代理人隊伍，同時，高沃專利代理人針對客戶的技術，遵守嚴格的工作流程，確保更完善、嚴密、有效地保護客戶的專利權益。
