美國東部時間5月19日-22日在美國馬薩諸塞州的波士頓會議展覽中心舉行的第141屆國際商標協會(INTA)年會如期召開。
高沃知識產權美國辦事處褚海英律師、國際部董總監、劉總監和多名商標代理人共赴美國參加了本次盛會，與全球各國知識產權專家、業界領袖、行業代表溝通交流，借助世界舞臺再次展示了高沃在知識產權領域的實力和風采！
本次年會有190多個展位，高沃知識產權獨占3個展位，可以說高沃展位是本次年會最大的展位之一了，眾多展位中高沃精心布置的品牌藍為主色調的展位非常醒目，吸引了眾多參會代表前來交流訪問。
高沃代表團接待了來自全球多個國家和地區的國際知識產權代表團、政府代表團、企業專家和學者，交流探討了各國知識產權的最近資訊信息，展示了高沃在知識產權領域的服務實力，并與多個國際事務所建立了友好合作關系。
高沃國際代表團與各國參會代表、客戶交流洽談
高沃董總監與客戶合影
高沃美國辦事處褚海英律師與他國律師交流
看圖，找亮點~
(會場內戴著高沃禮帽的參會代表隨處可見)
當今，隨著企業技術實力的提升，知識產權的保護會進一步加強，這是國際社會大趨勢，也是中國IP的必由之路。作為中國知識產權服務主體，高沃希望能為全球企業的知識產權保駕護航，力爭打造覆蓋全球的知識產權服務網絡，為知識產權行業發展添磚加瓦！
INTA年會圓滿落下帷幕，高沃知識產權代表團滿載而歸，波士頓之行將留存心底，而高沃的新篇章會繼續譜寫。高沃知識產權將一如以往，秉承著“用知識產權為客戶創造最大價值”的服務理念，為保護國內外客戶知識產權權益而努力，促進全球知識產權行業的進步和發展！
