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10.23高沃“如何高質量撰寫技術交底書及海外專利保護”交流會圓滿舉辦

金秋十月,是收獲的季節,也注定是個忙碌的季節。為了答謝廣大客戶的支持與信任,高沃知識產權特意在這個十月安排組織多場交流會,與大家齊聚一堂,暢聊知識產權保護問題。

 

 

10月23日,一場“如何高質量撰寫技術交底書及海外專利保護”交流會在高沃北京總部會議室如期召開,來自各地的近50位客戶如約而至,共同參加了這一主題交流會。

 

 

隨著我國自主創新能力的提高,我國的企業也越來越認識到做好知識產權保護工作的重要性,企業尋求創新技術專利保護,擴展海外市場的意愿日益迫切。在此背景下,做好專利布局變得愈發重要。

 

 
技術交底資料作為專利申請人(發明人)與專利代理人溝通的資料,是給專利代理人交代要申請專利的技術方案的資料,這也就要求專利代理人具有  “高撰寫水準”,遵照“專業、嚴謹”的工作流程。
 
 
在專利權授予后,權利要求書是確定發明或者實用新型專利權范圍的根據,也是判斷他人是否侵權的根據,有直接的法律效力。進行權利要求的撰寫必須十分嚴格、準確、具有高度的法律和技術方面的技巧。
 
企業提早申請國外專利,有助于更好地保障專利權益,在走向國外市場時獲取更有利的市場競爭和戰略資源。因此,提早進行海外專利布局也變得尤為重要!
 
 
高沃知識產權講師常老師從“專利申請、撰寫、布局、保護”幾個方面一一進行了深入淺出的講解,寫專利很容易,但把專利寫的有水準很難,通過介紹實際專利審查過程中遇到的案例,告訴大家在專利文件撰寫過程中要注意哪些問題,把握哪些技術關鍵信息,在布局中要遵照幾個原則,以確保更完善、嚴密、有效地保護創新技術。
 
隨著世界技術競爭的日益激烈,各國企業紛紛開展專利戰略研究,專利不僅已經成為衡量企業實力的標準,也成為了捍衛自身的必備武器。企業專利布局已經成為大勢所趨。專利申請及全面布局有利于企業總攬全局、預測競爭情報,對于企業技術創新、抵御市場競爭、布局發展策略等具有重要的指導意義。
 
本期交流會圓滿召開,現場常老師一一解答了客戶疑問,各位參會的企業代表、知產管理人員對老師的講解非常滿意,會后反饋受益頗豐。另外下午還有更深入圓桌論壇,與高沃專家面對面探討知識產權保護問題,為大家解決企業知識產權布局難題,定制個性化知識產權保護方案。
 
高沃一直踐行“用知識產權為客戶實現最大價值”的價值觀,為客戶提供從申請到訴訟一站式知識產權服務。如果您在專利申請、布局中遇到任何問題,歡迎聯系我們為您制定解決方案。

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