2024年5月18-22日，全球知識產權行業年度盛會——國際商標協會（INTA）第146屆年會在美國亞特蘭大隆重召開。高沃作為中國知識產權領域實力代表再度受邀參會，并設置展臺，與世界各地的合作伙伴商洽合作，共同探討全球知識產權保護熱點議題。
高沃國際事業部董總和資深專家代表參會
作為國際商標協會會員單位，高沃已連續多年組建專家代表團參與INTA年會。本屆年會細分為“知識產權創新（The IP and Innovation Track）”和“商業專題（The Business Track）”，高沃將同全球頂尖專家、業界領袖分享經驗，融匯創新，探討知識產權行業的最新趨勢和挑戰。
高沃專家代表團在展臺前合影
高沃專家代表與外所代表洽談交流
高沃代表團與外所代表商洽合作
高沃知識產權始終致力于為全球客戶提供卓越的服務體驗。目前，高沃已與全球180多個國家或地區的上千家律師事務所達成合作伙伴關系，并在美國達拉斯和日本東京設立了海外辦事處，形成了覆蓋全球的知識產權服務網絡。
高沃代表同外所合作伙伴在高沃展臺前合影
高沃代表同外所伙伴在高沃展臺前合影
未來，高沃將不忘初心，繼續秉承“全心全意為客戶創造價值”的宗旨，持續向國際市場發力，與全球知識產權合作伙伴們密切合作，攜手推動知識產權事業的持續繁榮與進步。
