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如何高質量撰寫技術交底書？如何進行專利布局？這似乎是每個專利申請人不可繞開的兩個焦點話題。

企業申請布局專利已經成為大勢所趨。優質合理的專利布局有利于企業總攬全局、預測競爭情報，對于企業技術創新、抵御市場競爭、布局發展策略等具有重要的指導意義。

12月11日，一場“如何高質量撰寫技術交底書及專利布局”交流會在高沃北京總部會議室如期召開，來自各地的約50位客戶如約而至，共同參加了這一主題交流會。

隨著我國自主創新能力的提高，我國的企業也越來越認識到做好知識產權保護工作的重要性，企業尋求創新技術專利保護，擴展海外市場的意愿日益迫切。在此背景下，做好專利布局變得愈發重要。

技術交底資料作為專利申請人（發明人）與專利代理人溝通的資料，是給專利代理人交代要申請專利的技術方案的資料，這也就要求專利代理人具有 “高撰寫水準”，遵照“專業、嚴謹”的工作流程。

高沃知識產權講師從“專利申請、撰寫、布局、保護”幾個方面一一進行了深入淺出的講解，寫專利很容易，但把專利寫的有水準很難，通過介紹實際專利審查過程中遇到的案例，告訴大家在專利文件撰寫過程中要注意哪些問題，把握哪些技術關鍵信息，在布局中要遵照幾個原則，以確保更完善、嚴密、有效地保護創新技術。

隨著世界技術競爭的日益激烈，各國企業紛紛開展專利戰略研究，專利不僅已經成為衡量企業實力的標準，也成為了捍衛自身的必備武器。企業專利布局已經成為大勢所趨。專利申請及全面布局有利于企業總攬全局、預測競爭情報，對于企業技術創新、抵御市場競爭、布局發展策略等具有重要的指導意義。

本期交流會圓滿召開，現場高沃專家講師一一解答了客戶疑問，各位參會的企業代表、知產管理人員對老師的講解非常滿意，會后反饋受益頗豐。另外下午還有更深入圓桌論壇，與高沃專家面對面探討知識產權保護問題，為大家解決企業知識產權布局難題，定制個性化知識產權保護方案。

高沃一直踐行“用知識產權為客戶實現最大價值”的價值觀，為客戶提供從申請到訴訟一站式知識產權服務。如果您在專利申請、布局中遇到任何問題，歡迎聯系我們為您制定解決方案。

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